真空镀膜设备销售，PCB 磁性材料 传感器等产品镀膜加工

Parylene采用化学气相沉积工艺（CVD）。 整个过程是气态反应，且全程在真空条件下进行，因而涂层非常的均匀 ，此特性是其它涂敷方式难以实现的。

沉积过程分为三步骤：

1．真空条件下, 以120℃将固态粉末状的对二甲苯的二聚物 (di-para-xylylene; dimer) 加热汽化

2．以650℃ 将气态的对二甲苯的二聚物 ,裂解为对二甲苯 (para-xylylene) 的活性单体(monomer)

3．气态活性单体在室温下沉积并聚合成聚对二甲苯 (Poly-para-xylylene )的薄膜。

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